半導體精密清洗的目的是為了保證半導體的良品率，實際上，半導體精密清洗并非簡單地在水里走幾圈，而是實實在在的一套工藝，屬于先進制造設備范疇，其中涉及許多物理和化學課題。那么這里所說的精密清洗有哪些方式呢，下面給大家詳細介紹下。

根據清洗介質的不同，半導體精密清洗分為濕法精密清洗和干法精密清洗。

濕法精密清洗：指采用去離子水和化學溶劑，輔以超聲波、加熱、真空等物理方法，對半導體表面進行清洗，隨后加以濕潤再干燥，以去除半導體制造過程中的污染物。濕法清洗過程化學藥液基本相同，不同工藝主要差別在于輔助方法，也是濕法精密清洗工藝的主要難點。

干法精密清洗：指不使用化學溶劑的清洗技術，雖然它可清洗污染物比較單一，但在28nm及更先進技術節點的邏輯產品和存儲產品中至關重要。

雖然清洗步驟中90%使用的都是濕法清洗技術，但在半導體制造中，干法和濕法在短期無法互相替代，并在各自領域向更先進方向發展。

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